消息面：清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供了新的设计策略

芯片 半导体 arf 光刻胶 半导体光刻胶 2025-10-26 19:35  14